高精度的X射線熒光分析技術(shù)，采用先多曲面連續(xù)彎曲晶體，實(shí)現(xiàn)單色激發(fā)，有效消除熒光峰下的X射線散射本底，顯著提升檢測(cè)性能。以分析速度快、精準(zhǔn)度高、分析范圍廣而深受市場(chǎng)青睞，是材料科學(xué)、環(huán)境監(jiān)測(cè)分析應(yīng)用的可靠工具。
